详情

原文传递检查方法和设备

专利名称：	检查方法和设备
摘要：	本发明公开了一种检查方法和设备。具体地，在一方面中，公开一种用于探测物体上存在缺陷或不存在缺陷的检查方法，所述物体包括具有物理深度的凹陷。所述方法包括：将辐射引导到所述物体上，所述辐射具有基本上等于所述凹陷的光学深度的两倍的波长；探测被所述物体或所述物体上的缺陷改变方向的辐射；和由所述改变方向的辐射确定存在缺陷或不存在缺陷。
专利类型：	发明专利
申请人：	ASML荷兰有限公司
发明人：	A·J·邓波埃夫;V·Y·班尼恩;S·F·乌伊斯特尔;L·斯卡克卡巴拉兹
专利状态：	有效
申请日期：	2010-08-19T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201010262277.3
公开号：	CN101995408A
代理机构：	中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：	王波波
分类号：	G01N21/88(2006.01)I
申请人地址：	荷兰维德霍温
主权项：	一种用于探测物体上存在缺陷或不存在缺陷的检查方法，所述物体包括具有物理深度的凹陷，所述方法包括步骤：将辐射引导到所述物体上，所述辐射具有基本上等于所述凹陷的光学深度的两倍的波长；探测被所述物体或所述物体上的缺陷改变方向的辐射；和由所述改变方向的辐射确定存在缺陷或不存在缺陷。
所属类别：	发明专利