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原文传递用于检查设备的照射源、检查设备和检查方法

专利名称：	用于检查设备的照射源、检查设备和检查方法
摘要：	公开了一种用于测量衬底上的目标结构的检查设备以及相关联方法。检查设备包括用于产生测量辐射的照射源；用于聚焦测量辐射至所述目标结构上的光学装置；以及补偿光学装置。补偿光学装置可以包括SLM，可操作为空间调制测量辐射的波前以便于补偿所述光学装置中非均匀制造缺陷。在备选实施例中，补偿光学装置可以位于测量辐射的光束中，或在用于在HHG源中产生高阶谐波辐射的泵浦辐射束。其中位于泵浦辐射的光束中，补偿光学装置可以用于校正指向误差，或赋予期望的分布，或者在测量辐射的光束中的变化的照射图案。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	荷兰;NL
申请人：	ASML荷兰有限公司
发明人：	P·D·范福尔斯特;林楠;S·B·鲁博尔;S·G·J·马斯杰森;S·T·范德波斯特
专利状态：	有效
申请日期：	2017-08-02T00:00:00+0800
发布日期：	2019-05-03T00:00:00+0800
申请号：	CN201780056418.6
公开号：	CN109716110A
代理机构：	北京市金杜律师事务所
代理人：	王茂华;张宁
分类号：	G01N21/95(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	荷兰维德霍温
主权项：	1.一种用于测量衬底上的目标结构的检查设备，包括：照射源，用于产生测量辐射；光学装置，用于将所述测量辐射聚焦至所述目标结构上，所述光学装置包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件被设置为接收掠入射的所述测量辐射；以及补偿光学装置，可操作为空间调制所述测量辐射的波前，以便于补偿所述光学装置中的非均匀性制造缺陷。 2.根据权利要求1所述的检查设备，其中，所述光学装置中的所述非均匀制造缺陷包括所述光学装置的所述一个或多个光学元件中的至少一个光学元件的倾斜误差。 3.根据权利要求1或2所述的检查设备，其中，所述补偿光学装置包括空间光调制装置。 4.根据权利要求3所述的检查设备，其中，所述空间光调制装置包括可形变镜面、数字微镜面装置、或微机电系统中的一个。 5.根据前述权利要求中任一项所述的检查设备，包括在所述衬底位置处的测量装置，所述测量装置可操作为测量由所述测量辐射的聚焦导致的测量光斑的尺寸。 6.根据权利要求5所述的检查设备，可操作为执行初始校准步骤以配置所述补偿光学装置以便于最小化所述测量光斑的所述尺寸。 7.根据前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述测量辐射包括软X射线或极紫外辐射。 8.根据前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中，所述补偿光学装置位于所述测量辐射的光束中，以便于直接地空间调制所述测量辐射的所述光束的所述波前。 9.根据权利要求8所述的检查设备，其中，所述补偿光学装置位于所述测量辐射的光束的、在所述照射源和所述衬底之间的平行传播部分中。 10.根据权利要求9所述的检查设备，其中，所述补偿光学装置位于所述检查设备的光瞳面中。 11.根据权利要求1至7中任一项所述的检查设备，其中：所述照射源是高阶谐波产生源，所述高阶谐波产生源包括高阶谐波产生介质以及泵浦辐射源，所述泵浦辐射源发出用于激励所述高阶谐波产生介质的泵浦辐射；以及所述补偿光学装置可操作为在其激励所述高阶谐波产生介质之前空间调制所述泵浦辐射的所述波前，从而所述泵浦辐射的所述波前的所述空间调制引起所述测量辐射的所述波前的所述空间调制。 12.一种用于产生高阶谐波辐射的照射源，包括：高阶谐波产生介质；泵浦辐射源，其发出泵浦辐射的光束，所述泵浦辐射的光束用于激励所述高阶谐波产生介质以产生所述高阶谐波辐射；以及补偿光学装置，可操作为在所述泵浦辐射的所述光束激励所述高阶谐波产生介质之前空间调制所述泵浦辐射的所述光束的所述波前。 13.根据权利要求12所述的照射源，其中，所述补偿光学装置可操作为空间调制所述泵浦辐射的所述光束的所述波前以便于校正所述高阶谐波辐射的光束的位置误差。 14.根据权利要求13所述的照射源，可操作为：接收位置信号，所述位置信号描述光束的焦点位置，其中所述光束是所述泵浦辐射的光束或者所述高阶谐波辐射的所述光束；基于所述位置信号，确定在所述泵浦辐射的所述光束的波前调制方面的、对于所述光束的所述焦点位置相对于期望位置的校正；以及经由所述补偿光学装置实施所述校正。 15.一种测量衬底上的目标结构的方法，包括：空间调制测量辐射的波前，以补偿在包括一个或多个光学元件的光学装置中的非均匀性制造缺陷；使用所述光学装置将所述测量辐射聚集至所述目标结构上，从而至少一个光学元件接收掠入射的所述测量辐射，由此采用所述测量辐射来照射所述目标结构；检测由采用所述测量辐射照射所述目标得到的经散射的辐射；以及处理检测到的经散射的辐射以确定与所述目标结构相关的测量值。
所属类别：	发明专利