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光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法
| 专利名称： | 光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法 |
| 摘要： | 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法。通过以下方式来检查具有在透明基板上的薄膜的光掩模坯的缺陷：将检查光线照射到光掩模坯的表面区域，经由检查光学系统收集来自照射区域的反射光以形成该区域的放大图像，提取出来自放大图像的光强度分布的特征参数，和基于与薄膜结构相结合的特征参数来识别缺陷的凸起/凹坑形状。该缺陷检查方法对于以高度可靠的方式区分凸起或凹坑形状的缺陷而言是有效的。在应用该缺陷检测方法时，可以以更低的成本和更高的成品率获得没有针孔缺陷的光掩模坯。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 信越化学工业株式会社 |
| 发明人： | 寺泽恒男;福田洋;横畑敦;木下隆裕;岩井大祐 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810075523.0 |
| 公开号： | CN108362711A |
| 代理机构： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
| 代理人： | 何杨 |
| 分类号： | G01N21/956(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/956 |
| 申请人地址： | 日本东京 |
| 主权项： | 1.一种用于检查光掩模坯上的缺陷的方法，包括步骤：(A1)制备在光学透明基板上具有至少一层薄膜的光掩模坯，所述光掩模坯在其表面上带有缺陷，(A2)移动所述光掩模坯，以将所述光掩模坯表面上的所述缺陷移动到检查光学系统可观察的位置，将检查光线照射到带有缺陷的表面区域，并且经由所述光学检查系统收集来自照射区域的反射光作为该区域的放大图像，(A3)从所述放大图像中提取特征参数，和(A4)基于与所述光掩模坯薄膜的结构相结合的所述特征参数来识别所述缺陷的形状。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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