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原文传递用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法

专利名称：	用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法
摘要：	本发明提供了一种用于检测光掩模和裸片中的缺陷的检查设备及检查方法，该缺陷检查设备包括被配置为从设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像的参考图像产生器。图像检查器被配置为获得光掩模的第一检查区域的第一检查图像和光掩模的第二检查区域的第二检查图像。操作处理器被配置为通过将第一检查图像与第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移，并且通过将第二检查图像与第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	韩国;KR
申请人：	三星电子株式会社
发明人：	李刚源;闵徹基;朴锺主;宋弦昔
专利状态：	有效
申请日期：	2018-10-15T00:00:00+0800
发布日期：	2019-05-14T00:00:00+0800
申请号：	CN201811197090.2
公开号：	CN109752390A
代理机构：	北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人：	刘美华;韩芳
分类号：	G01N21/95(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	韩国京畿道水原市
主权项：	1.一种缺陷检查设备，所述缺陷检查设备包括：参考图像产生器，被配置为从设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像；图像检查器，被配置为获得光掩模的第一检查区域的第一检查图像和所述光掩模的第二检查区域的第二检查图像；以及操作处理器，被配置为通过将所述第一检查图像与所述第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移，并且通过将所述第二检查图像与所述第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移。 2.如权利要求1所述的缺陷检查设备，其中，所述第一参考图像和所述第二参考图像均包括比所述第一检查图像和所述第二检查图像的像素小的像素。 3.如权利要求1所述的缺陷检查设备，其中，所述操作处理器还被配置为将所述第一检查图像和所述第二检查图像对齐以偏移达从所述第一坐标偏移和所述第二坐标偏移提取的对齐偏移，然后以裸片对裸片的方式将所述第一检查图像与所述第二检查图像进行比较。 4.如权利要求1所述的缺陷检查设备，其中，所述操作处理器还被配置为从所述第一检查图像的灰度级数据和所述第二检查图像的灰度级数据中提取灰度级差值，并且通过将所述灰度级差值与预定的阈值进行比较来确定所述第二检查区域中是否存在缺陷。 5.如权利要求1所述的缺陷检查设备，其中，所述图像检查器包括：分光器，将从光源发射的光分为透射路径和反射路径；以及光学传感器，被配置为接收已穿过所述光掩模的光和已被所述光掩模反射的光。 6.一种检查在检查对象中的缺陷的方法，所述方法包括：从与所述检查对象有关的设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像；获得所述检查对象的第一检查图像和第二检查图像；通过将所述第一检查图像与所述第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移；通过将所述第二检查图像与所述第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移；使用所述第一坐标偏移和所述第二坐标偏移以裸片对裸片的方式将所述第一检查图像与所述第二检查图像进行比较；以及基于所述第一检查图像和所述第二检查图像的比较来确定在所述第二检查图像中是否存在缺陷。 7.如权利要求6所述的方法，其中，将所述第一检查图像与所述第二检查图像进行比较的步骤包括：使用从所述第一坐标偏移和所述第二坐标偏移提取的对齐偏移来对齐所述第一检查图像和所述第二检查图像；以及从所述第一检查图像的灰度级数据和所述第二检查图像的灰度级数据中提取灰度级差值。 8.如权利要求7所述的方法，其中，确定是否存在缺陷的步骤包括将所述灰度级差值与预定的阈值进行比较。 9.如权利要求6所述的方法，其中，获得所述第一检查图像和所述第二检查图像的步骤包括：安装包括第一裸片和邻近于第一裸片设置的第二裸片的光掩模；对齐所述光掩模；将光指向到所述第一裸片上；以及将光指向到所述第二裸片上。 10.如权利要求9所述的方法，其中，从所述第一裸片的区域获得所述第一检查图像，从所述第二裸片的区域获得所述第二检查图像。 11.如权利要求6所述的方法，其中，通过将所述第一检查图像与所述第一参考图像进行比较来提取所述第一坐标偏移的步骤包括：对齐所述第一检查图像和所述第一参考图像，并且提取设置在所述第一检查图像的左下角处的第一顶点与设置在所述第一参考图像的左下角处的第一参考顶点之间的距离。 12.如权利要求6所述的方法，其中，通过将所述第二检查图像与所述第二参考图像进行比较来提取所述第二坐标偏移的步骤包括：对齐所述第二检查图像和所述第二参考图像，并且提取设置在所述第二检查图像的左下角处的第二顶点与设置在所述第二参考图像的左下角处的第二参考顶点之间的距离。 13.如权利要求6所述的方法，其中，所述第一参考图像和所述第二参考图像均包括比所述第一检查图像和所述第二检查图像的像素小的像素。 14.如权利要求6所述的方法，其中，产生所述第一参考图像和所述第二参考图像的步骤包括：通过对设计布局数据进行仿真来产生所述第一参考图像；以及通过以将与所述第一参考图像相同的图像以预定的节距对齐来产生所述第二参考图像。 15.一种检查光掩模的缺陷的方法，所述方法包括：从所述光掩模的设计布局数据产生第一参考图像和第二参考图像；通过将光指向到所述光掩模上来获得所述光掩模的第一检查区域的第一检查图像并且获得所述光掩模的第二检查区域的第二检查图像；通过将所述第一检查图像与所述第一参考图像进行比较来提取第一坐标偏移；以及通过将所述第二检查图像与所述第二参考图像进行比较来提取第二坐标偏移，其中，所述第一参考图像和所述第二参考图像均包括比所述第一检查图像和所述第二检查图像的像素小的像素。 16.如权利要求15所述的方法，所述方法还包括：在将所述第一检查图像和所述第二检查图像对齐以偏移达从所述第一坐标偏移和所述第二坐标偏移提取的对齐偏移之后，以裸片对裸片的方式将所述第一检查图像与所述第二检查图像进行比较；以及基于所述第一检查图像和所述第二检查图像的比较来确定所述第二检查区域中是否存在缺陷。 17.如权利要求16所述的方法，其中，以裸片对裸片的方式将所述第一检查图像与所述第二检查图像进行比较的步骤包括从所述第一检查图像的灰度级数据与所述第二检查图像的灰度级数据中提取灰度级差值。 18.如权利要求17所述的方法，其中，确定所述第二检查区域中是否存在缺陷的步骤包括将所述灰度级差值与预定的阈值进行比较。 19.如权利要求15所述的方法，其中，所述第一检查区域是所述光掩模的第一裸片的区域，所述第二检查区域是所述光掩模的第二裸片的区域。 20.如权利要求15所述的方法，其中，产生所述第一参考图像和所述第二参考图像的步骤包括：通过对设计布局数据进行仿真来产生所述第一参考图像；以及通过将与所述第一参考图像相同的图像以预定的间隔对齐来产生所述第二参考图像。
所属类别：	发明专利