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原文传递用于极紫外掩模缺陷检查的相位对比度监测

专利名称：	用于极紫外掩模缺陷检查的相位对比度监测
摘要：	本发明揭示使用光学检查工具检查极紫外EUV光罩的方法及设备。使用具有定位于成像光瞳处的光瞳滤波器的检查工具从自EUV测试光罩的测试部分反射及散射的输出光束获得测试图像或信号。所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度。针对经设计以相同于所述测试光罩部分的参考光罩部分获得参考图像或信号。比较所述测试及参考图像或信号且基于此比较确定所述测试光罩部分是否具有任何候选缺陷。针对所述光罩的多个测试光罩部分中的每一者，重复使用所述检查工具、获得参考图像或信号、比较且确定的操作。基于已经确定存在的任何候选缺陷生成缺陷报告。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	美国;US
申请人：	科磊股份有限公司
发明人：	张强;石瑞芳
专利状态：	有效
申请日期：	2017-10-07T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-13T00:00:00+0800
申请号：	CN201780061128.0
公开号：	CN110234985A
代理机构：	北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人：	刘丽楠
分类号：	G01N21/88(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	美国加利福尼亚州
主权项：	1.一种使用光学检查工具检查极紫外EUV光罩的方法，所述方法包括：使用具有定位于成像光瞳处的光瞳滤波器的检查工具从自EUV测试光罩的测试部分反射及散射的输出光束获得测试图像或信号，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度；针对经设计以相同于所述测试光罩部分的参考光罩部分获得参考图像或信号；比较所述测试及参考图像或信号且基于此比较确定所述测试光罩部分是否具有任何候选缺陷；针对所述光罩的多个测试光罩部分中的每一者，重复使用所述检查工具、获得参考图像或信号、比较且确定的所述操作；且基于已经确定存在的任何候选缺陷生成缺陷报告。 2.根据权利要求1所述的方法，其中相较于所述测试光罩部分中的非相位或不同相物体，所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度来增强相位物体的信号强度。 3.根据权利要求2所述的方法，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度而引入相位变化，使得从相位物体散射的光之间的相位更密切匹配从此相位物体反射的光，且此散射及反射光可彼此相长干涉以增强所述相位物体的检测到的图像信号。 4.根据权利要求1所述的方法，其中所述光瞳滤波器是厚片玻璃，其具有蚀刻部分，所述蚀刻部分的经蚀刻深度对应于引入到所述输出光束的透射通过所述光瞳滤波器的一部分内的相位变化量。 5.根据权利要求4所述的方法，其中所述经蚀刻深度为约85nm，以提供90°的相位变化。 6.根据权利要求4所述的方法，其中所述光瞳滤波器的所述蚀刻部分的宽度基本上匹配对应于所述输出光的反射部分的照明区域，以提供此照明区域而非对应于所述输出光的散射光部分的此照明区域外的相位变化。 7.根据权利要求6所述的方法，其中所述照明区域对应于σ0.5照明且所述光瞳滤波器的所述宽度等于约所述成像光瞳的孔直径的一半。 8.根据权利要求4所述的方法，其中所述光瞳滤波器包括在所述玻璃的相对于包含所述蚀刻部分的侧的侧上的多个半色调图案，其中所述半色调图案经设定尺寸且经布置以控制所述输出光的所述透射。 9.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括通过模拟随着由多个光瞳滤波器配置产生的相位变化角而变化的多个缺陷类型的缺陷强度信号而设计所述相位滤波器。 10.根据权利要求1所述的方法，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度，以引起多个光罩图案及缺陷类型的多个强度色调的校正。 11.根据权利要求1所述的方法，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度，以使得多个缺陷类型的多个偏焦基本上相等。 12.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括从具有不同相位对比度效应的多个光瞳滤波器中选择所述光瞳滤波器，其中此选择是基于分析来自先前经检查的光罩区域中的结果。 13.一种用于检查EUV光罩的检查系统，其包括：光源，其用于生成入射光束；照明光学器件，其用于将所述入射光束引导到EUV光罩上；集光光学器件，其用于响应于所述入射光束而引导从所述EUV光罩反射及散射的输出光束，其中所述输出光束经引导通过光瞳滤波器朝向传感器；所述光瞳滤波器定位于所述系统的成像光瞳中，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度；所述传感器，其用于检测来自所述光瞳滤波器的所述输出光束且生成此输出光束的图像或信号；及控制器，其经配置以执行以下操作：获得经设计以相同于所述测试光罩部分的参考光罩部分的参考图像或信号；比较所述测试及参考图像或信号且基于此比较确定所述测试光罩部分是否具有任何候选缺陷；针对所述光罩的多个测试光罩部分中的每一者，重复获得参考图像或信号、比较且确定的所述操作；且基于已经确定存在的任何候选缺陷生成缺陷报告。 14.根据权利要求13所述的系统，其中相较于所述测试光罩部分中的非相位或不同相物体，所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度来增强相位物体的信号强度。 15.根据权利要求14所述的系统，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度而引入相位变化，使得从相位物体散射的光之间的相位更密切匹配从此相位物体反射的光，且此散射及反射光可彼此相长干涉以增强所述相位物体的检测到的图像信号。 16.根据权利要求13所述的系统，其中所述光瞳滤波器是厚片玻璃，其具有蚀刻部分，所述蚀刻部分的深度对应于引入到所述输出光束的透射通过所述光瞳滤波器的一部分内的相位变化量。 17.根据权利要求16所述的系统，其中所述深度为约85nm，以提供90°的相位变化。 18.根据权利要求16所述的系统，其中所述光瞳滤波器的所述蚀刻部分的宽度基本上匹配对应于所述输出光的反射部分的照明区域，以提供此照明区域而非对应于所述输出光的散射光部分的此照明区域外的相位变化。 19.根据权利要求18所述的系统，其中所述照明区域对应于σ0.5照明且所述光瞳滤波器的所述宽度等于约所述成像光瞳的孔直径的一半。 20.根据权利要求18所述的系统，其中所述照明区域对应于小于或大于σ0.5的光瞳区域。 21.根据权利要求16所述的系统，其中所述光瞳滤波器包括在所述玻璃的相对于包含所述蚀刻部分的侧的侧上的多个半色调图案，其中所述半色调图案经设定尺寸且经布置以控制所述输出光的所述透射。 22.根据权利要求13所述的系统，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度，以引起多个光罩图案及缺陷类型的多个强度色调的校正。 23.根据权利要求13所述的系统，其中所述光瞳滤波器经配置以提供所述输出光束中的相位对比度，以使得多个缺陷类型的多个偏焦基本上相等。 24.一种使用光学检查工具检查极紫外EUV光罩的方法，所述方法包括：使用检查工具从自EUV测试光罩的测试部分反射及散射的输出光束获得测试图像或信号，其中相较于所述测试光罩部分中的非相位或不同相物体，所述检查工具经配置以引入球形像差以提供所述输出光束中的相位对比度来增强相位物体的信号强度；针对经设计以相同于所述测试光罩部分的参考光罩部分获得参考图像或信号；比较所述测试及参考图像或信号且基于此比较确定所述测试光罩部分是否具有任何候选缺陷；针对所述光罩的多个测试光罩部分中的每一者，重复使用所述检查工具、获得参考图像或信号、比较且确定的所述操作；且基于已经确定而呈现的任何候选缺陷生成缺陷报告。
所属类别：	发明专利