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原文传递一种薄膜测量装置和方法

专利名称：	一种薄膜测量装置和方法
摘要：	本发明公开了一种薄膜测量装置和方法，所述装置包括照明单元，用于提供照明光束；第一成像镜组，包括物镜，用于将照明光束通过物镜照射到位于一透明基底上的薄膜上，并收集薄膜和透明基底的反射光束；视场光阑，与薄膜关于物镜共轭，用于限制透明基底下表面反射光对测量信号的串扰，获得更多的有效信号；面阵探测器，探测经所述视场光阑后的光束分布；以及处理器，采集入射角大于一临界入射角的照明光束的成像的角谱信息，并根据角谱信息计算薄膜的参数。本发明利用透明基底的低反射率，采用在角谱成像光路加入视场光阑的方式，将透明基底下表面反射光去除，以提高上层反射信号的信噪比。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	上海;31
申请人：	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人：	刘昊;周钰颖;陆海亮
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201610510441.5
公开号：	CN107561007A
代理机构：	上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人：	屈蘅;李时云
分类号：	G01N21/01(2006.01)I;G01N21/84(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01;G01N21/84
申请人地址：	201203 上海市浦东新区张东路1525号
主权项：	一种薄膜测量装置，其特征在于，包括：照明单元，用于提供照明光束；第一成像镜组，包括物镜，用于将照明光束通过所述物镜照射到位于一透明基底上的薄膜上，并收集所述薄膜和透明基底的反射光束；视场光阑，与所述薄膜关于所述物镜共轭，用于遮挡经所述透明基底下表面反射后的反射光；面阵探测器，探测经所述视场光阑后的光束分布；以及处理器，采集入射角大于一临界入射角的照明光束的成像的角谱信息，并根据所述角谱信息计算所述薄膜的参数。
所属类别：	发明专利