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电子束成像模块、电子束检测设备及其图像采集方法
| 专利名称： | 电子束成像模块、电子束检测设备及其图像采集方法 |
| 摘要： | 本公开提供一种用于图像采集的电子束成像模块、电子束检测设备、以及利用上述电子束检测设备的图像采集方法。本公开的总体思路在于，通过将整体视场分层级划分为多个面积较小的子视场(CFOV)，并且采集这些子视场的图像，继而拼接这些图像、以及后续通过校正和积分平均化至少部分地去除甚至完全消除小视场之间的重叠，来合成全景图像。在子视场和全景视场的扫描中，采用至少一组偏转器来进行电子束的移位。本公开不仅实现了高速且精确的电子束扫描，而且实现了大视场电子束图像的成像。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司 |
| 发明人： | 滝川忠宏;土屋清一;刘玉平;孙伟强 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201710612023.1 |
| 公开号： | CN109298001A |
| 代理机构： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
| 代理人： | 王益 |
| 分类号： | G01N23/2206(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼 |
| 主权项： | 1.一种电子束成像模块，所述电子束成像模块被构造成向待测样品表面投射入射电子束以生成电子束图像的电子光学系统，所述电子光学系统包括：电子束发射源，被配置成用以产生和发射入射电子束；相对于入射电子束的光轴对称地安置的至少一组偏转器；以及出射电子检测器，被配置成用以检测包括由入射电子束投射至所述待测样品而产生的二次电子和背散射电子中的至少一种的出射电子；其中，入射电子束被投射至待测样品表面，并且对在所述待测样品表面内的预先限定的关注区域进行扫描，所述关注区域包括至少一个全景区域，且所述全景区域包括至少一个子区域；并且所述至少一组偏转器被配置用来在所述全景区域之中将电子束从已扫描的子区域偏移至相邻的待扫描的子区域，以及在每个待扫描的子区域中偏移电子束进行扫描。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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