专利名称: |
X射线检测设备、X射线薄膜检测方法和测量摇摆曲线的方法 |
摘要: |
在根据本发明的X射线检查设备中,X射线照射单元40包括用于在垂直方向上聚焦特征X射线的第一X射线光学元件42,以及用于在水平方向上聚焦特征X射线的第二X射线光学元件43。第一X射线光学元件42由具有高结晶度的晶体材料构成。第二X射线光学元件包括多层镜。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
株式会社理学 |
发明人: |
尾形洁;表和彦;吉原正;伊藤义泰;本野宽;高桥秀明;杵渕隆男;樋口明房;梅垣志朗;浅野繁松;山口僚太郎;洞田克隆;神户亮;姜立才;B·韦尔曼 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201780035084.4 |
公开号: |
CN109313145A |
代理机构: |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人: |
张小稳 |
分类号: |
G01N23/207(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
日本东京 |
主权项: |
1.一种X射线检查设备,包括:样本台,在其上放置检查目标样本;图像观察装置,用于观察放置在样本台上的样本的图像;定位机构,基于图像观察装置对样本的图像观察结果来控制,以在水平平面上的两个正交方向、高度方向和面内旋转方向上移动样本台;测角仪,包括第一旋转构件和第二旋转构件,所述第一旋转构件和第二旋转构件沿着垂直于样本的表面的虚拟平面彼此独立地围绕旋转轴旋转,所述旋转轴包含在与放置在样本台上的样本的表面相同的平面中,X射线照射单元,安装在第一旋转构件中,并且将特征X射线聚焦并照射到设置在与放置在样本台上的样本的表面相同的平面中的检查位置;和X射线检测器,安装在第二旋转构件中,其中X射线照射单元包括用于生成X射线的X射线管,以及用于接收从X射线管照射的X射线、仅提取特定波长的特征X射线并将所提取的特征X射线聚焦在检查位置上的X射线光学元件,并且所述X射线光学元件包括第一X射线光学元件和第二X射线光学元件,所述第一X射线光学元件用于将特征X射线聚焦为使得特征X射线的高度在与样本的表面正交并包含光轴的虚拟垂直平面内减小,并且所述第二X射线光学元件用于将特征X射线聚焦为使得特征X射线的宽度在与虚拟垂直平面正交并包含光轴的虚拟平面内减小。 |
所属类别: |
发明专利 |