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用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统及方法
| 专利名称： | 用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统及方法 |
| 摘要： | 本揭露涉及用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统及方法。样本的缺陷检测及光致发光测量将斜照明波长光束引导到样本的一部分上；将用于引起样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光的法线照明波长光束引导到样本的一部分上；收集来自样本的缺陷散射辐射或光致发光辐射；将来自样本的所述辐射分离成可见光谱中的辐射的第一部分、包含法线照明波长光的辐射的第二部分及包含斜照明波长光的辐射的至少第三部分；测量辐射的第一部分、辐射的第二部分或辐射的第三部分的一或多个特性；基于辐射的第一部分、辐射的第二部分或辐射的第三部分的经测量的一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷或一或多个散射缺陷。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 科磊股份有限公司 |
| 发明人： | R·萨佩 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811188708.9 |
| 公开号： | CN109540853A |
| 代理机构： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
| 代理人： | 张世俊 |
| 分类号： | G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 美国加利福尼亚州 |
| 主权项： | 1.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统，其包括：第一辐射源，其经配置以将第一光束引导到所述样本的一部分上；第二辐射源，其经配置以将第二光束引导至所述样本的一部分上，其中所述第二光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；一组收集光学器件，其经配置以收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的至少光致发光辐射；滤波器子系统，其经配置以接收由所述组收集光学器件收集的所述辐射的至少一部分，其中所述滤波器子系统经配置以将来自所述样本的所述辐射分离成两个或更多个辐射部分，其中至少第一辐射部分包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长；检测子系统，其包含用于测量由所述滤波器子系统传输的所述第一辐射部分的一或多个特性的至少第一传感器；以及控制器，其以通信方式耦合到至少所述第一传感器，所述控制器经配置以基于由所述第一传感器测量的至少所述一或多个特性检测一或多个光致发光缺陷。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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