专利名称: |
双能X射线光栅干涉成像系统及方法 |
摘要: |
本发明提供一种双能X射线光栅干涉成像系统及方法,具备:具有一定相干性能通过调节产生预定的两种不同能量X射线的光源;能对预定的两种不同能量的X射线产生相同的相位移动的双能相位光栅,从而在双能相位光栅后相同位置产生同样的周期性竖状条纹;分辨率优于竖状条纹的周期的X射线探测器,光源为平行光,从光源入射X射线的方向依次配置待测样品、双能相位光栅和探测器。根据本发明,针对上述问题,本发明的目的在于提供一种双能X射线光栅干涉成像系统及方法,可实现双能光栅干涉成像,从而能获取样品两个能量下的线性衰减因子、相移因子、散射因子等信息,可有效进行物质鉴别、缺陷诊断等。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
中国工程物理研究院流体物理研究所 |
发明人: |
邓锴;谢卫平;李晶;袁建强 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-03-15T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-07-30T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910199388.5 |
公开号: |
CN110068585A |
代理机构: |
上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
曹芳玲;邹蕴 |
分类号: |
G01N23/20(2018.01);G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
621999 四川省绵阳市绵山路64号 |
主权项: |
1.一种双能X射线光栅干涉成像系统,其特征在于,具备: 具有一定相干性能通过调节产生预定的两种不同能量X射线的光源; 能对所述预定的两种不同能量的X射线产生相同的相位移动的双能相位光栅,从而在所述双能相位光栅后相同位置产生同样的周期性竖状条纹; 分辨率优于所述竖状条纹的周期的X射线探测器, 所述光源为平行光,从所述光源入射X射线的方向依次配置所述待测样品、所述双能相位光栅和所述探测器。 2.根据权利要求1所述的双能X射线光栅干涉成像系统,其特征在于, 若所述探测器具有能够分辨两个能点能量的分辨率,则所述光源为涵盖两个能点能量的宽谱X射线源,且无需具备产生预定的两种不同能量X射线的能力。 3.根据权利要求1所述的双能X射线光栅干涉成像系统,其特征在于, 所述光源为同步辐射光源、或微焦点X射线源。 4.根据权利要求1所述的双能X射线光栅干涉成像系统,其特征在于, 使用所述分析光栅在所述探测器前方步进扫描检波。 5.一种根据权利要求1至4中任意一项所述的双能X射线光栅干涉成像系统的工作方法,其特征在于,包括: 1)将X射线光源、双能相位光栅和探测器依次放入光路; 2)调节双能相位光栅和探测器的角度和位置以满足规定条件; 3)在未放置待测样品的状态下,打开光源,记录竖状条纹图像u1; 4)放入待测样品,打开光源,记录竖状条纹图像u2; 5)改变X射线源的能谱,使之分别包含高低能点,重复步骤2到4两遍,以获得u1(EL)、u2(EL)、u1(EH)、u2(EH),通过算法计算条纹的整体强度变化、扭曲和模糊,获得多衬度图像,其中EL为低能点,EH为高能点。 6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于, 使用具有能够分辨两个能点能量的分辨率的X射线探测器,则直接比较高低两个能段下探测器记录的结果,以获得u1(EL)与u2(EL),以及u1(EH)与u2(EH),通过算法计算条纹的整体强度变化、扭曲和模糊,获得多衬度图像。 |
所属类别: |
发明专利 |