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原文传递免步进X射线光栅相衬成像方法

专利名称：	免步进X射线光栅相衬成像方法
摘要：	本发明公开了一种免步进X射线光栅相衬成像方法，包括以下步骤：1)布置成像系统；2)改变所述分析光栅的角度或者改变所述相位光栅自成像条纹的周期，使探测器平面接收到莫尔条纹；3)调整成像系统结构参数获得背景位移曲线；4)在所述物点处放置样品，采集此时探测器接收到的条纹信息，获得物体位移曲线；5)根据获得的背景位移曲线和物体位移曲线，处理得到样品的吸收、折射和散射信息。与传统X射线光栅相衬成像方法采用相位步进相比，本发明由于免除了相位步进流程，大大提高了相衬成像的速度，降低了对机械部件的精度要求，同时，没有额外增加成本、物体不用移动扫描、对莫尔条纹的一致性要求也不高，是光栅相衬成像方法的有效补充。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	江苏;32
申请人：	中国科学院苏州生物医学工程技术研究所
发明人：	杜强;袁刚;胡涛;孙明山;杨晓冬
专利状态：	有效
申请日期：	2019-05-28T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-16T00:00:00+0800
申请号：	CN201910449219.2
公开号：	CN110133011A
代理机构：	北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	韩飞
分类号：	G01N23/041(2018.01);G;G01;G01N;G01N23
申请人地址：	215163 江苏省苏州市高新区科技城科灵路88号
主权项：	1.一种免步进X射线光栅相衬成像方法，其特征在于，包括以下步骤： 1)布置成像系统，所述成像系统包括沿光路依次设置的X射线光源、物点、分析光栅、相位光栅及探测器； 2)改变所述分析光栅的角度或者改变所述相位光栅自成像条纹的周期，使探测器平面接收到莫尔条纹； 3)调整成像系统结构参数，使系统的极限分辨率大小的像素在探测器平面成像为1个条纹周期，采集探测器接收到的条纹信息，获得背景位移曲线； 4)在所述物点处放置样品，采集此时探测器接收到的条纹信息，获得物体位移曲线； 5)根据获得的背景位移曲线和物体位移曲线，利用相位信息分离算法，处理得到样品的吸收、折射和散射信息，实现相衬成像。 2.根据权利要求1所述的免步进X射线光栅相衬成像方法，其特征在于，所述步骤3)中，探测器接收到的条纹信息满足1个周期，此处的探测器等效为相位步进法对物点的一个周期的步进。 3.根据权利要求2所述的免步进X射线光栅相衬成像方法，其特征在于，所述成像系统满足：其中，S为X射线光源的焦点大小，p为探测器像素大小，n为探测器像素个数，R为系统空间分辨率，l为焦点到物点距离，d为物点到探测器距离。 4.根据权利要求3所述的免步进X射线光栅相衬成像方法，其特征在于，其中，所述探测器像素个数n为5。 5.根据权利要求1所述的免步进X射线光栅相衬成像方法，其特征在于，所述成像系统还包括设置在所述X射线光源和物点之间的源光栅。
所属类别：	发明专利