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升降式基板处理装置及具备其的基板处理系统
| 专利名称： | 升降式基板处理装置及具备其的基板处理系统 |
| 摘要： | 本发明涉及一种将基板从处理线的一方搬送至另一方且可在搬送中处理基板的升降式基板处理装置及具备其的基板处理系统。升降式基板处理装置具备：具有上下并排的基板投入口(11a)及基板排出口(11b)的壳体状盖体(11)；装于盖体内且具备收纳并支撑着从前述基板投入口(11a)搬入的基板并从前述基板排出口排出前述基板的搬送及支撑机构、支撑着该搬送及支撑机构的支撑架台(21)、及配设于该搬送及支撑机构的上方，用来向基板上喷出处理流体的处理流体喷出机构的处理机构(20)；以及支撑着前述处理机构(20)并使其上下升降，且使 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 住友精密工业株式会社 |
| 发明人： | 水川茂;中田胜利;松元俊二 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2002-02-21T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN02800031.5 |
| 公开号： | CN1455951 |
| 代理机构： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 龙淳;张英光 |
| 分类号： | H01L21/68 |
| 申请人地址： | 日本兵库县 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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