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原文传递在真空室中传送平坦基片的装置

专利名称：	在真空室中传送平坦基片的装置
摘要：	本发明涉及一种传送平坦基片通过涂覆设备的装置。该涂覆设备包括例如真空中多个不同的溅射阴极，平坦基片例如玻璃板被先后传送至所述的多个溅射阴极。为了使玻璃板和接触点之间不产生磨损，通过气体压力使玻璃板保持与接触点分开。气体压力通过在气体通道中的相对少的和小的孔来建立。因为在将涂覆装置充气到大气压力和抽空期间，由于这些小孔，在气体通道和其余涂覆装置之间不可能有快速的压力平衡，因此使气体通道与气体涂覆装置在气体方面分离，并给气体通道提供独立的气体管线，气体通过所述管线可以进入气体通
专利类型：	发明专利
申请人：	应用薄膜有限公司
发明人：	斯特凡·班格特;弗兰克·富克斯;乌韦·许斯勒;拉尔夫·林登贝格;托比亚斯·施托莱
专利状态：	有效
申请日期：	2004-03-08T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200480000431.2
公开号：	CN1697767
代理机构：	中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人：	杨林森;谷惠敏
分类号：	B65G49/06
申请人地址：	德国阿尔策瑙
所属类别：	发明专利