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原文传递基板处理装置

专利名称：	基板处理装置
摘要：	本发明提供一种基板处理装置，用于减少设置所必需的占地面积，可以用简单的结构以倾斜姿态搬送基板，降低设备成本。搬送方向转换部(40)转换搬送方向，通过该倾斜搬送部(49)，在大致维持通过第一搬送路(41)的梯度而处于倾斜姿态的状态不变的条件下，将在第一处理部(20)实施处理后的基板搬送到第二搬送路(43)。液体供给部向由此倾斜搬送部(49)搬送的基板(B)的主面供给处理液。在第二搬送路(43)以及第二处理部(30)，使由倾斜搬送部(49)保持为倾斜姿态的基板，以原姿态在与第一处理部2
专利类型：	发明专利
申请人：	大日本网目版制造株式会社
发明人：	小田裕史;川根旬平
专利状态：	有效
申请日期：	2006-01-05T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200610051362.9
公开号：	CN1812071
代理机构：	隆天国际知识产权代理有限公司
代理人：	高龙鑫;王玉双
分类号：	H01L21/677(2006.01)I
申请人地址：	日本京都府
所属类别：	发明专利