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原文传递快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法

专利名称：	快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法
摘要：	本发明公开了一种快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，包括以下步骤：S1：将大口径光学元件置于暗室内；S2：启动并调整全反射照明模块，使光线以全反射角入射大口径光学元件的表面；S3：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集；S4：关闭全反射照明模块；S5：启动并调整低角度入射照明模块；S6：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集。采用以上方法，避免了复杂的流程，简洁、高效、直观地实现了大口径光学元件表面污染和损伤的快速分辨和统计，解决了目前技术不能兼顾同时统计污染和损伤的问题。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	四川;51
申请人：	中国工程物理研究院激光聚变研究中心
发明人：	王海军;张传超;王静轩;陈静;张丽娟;蒋晓龙;廖威;栾晓雨;蒋晓东
专利状态：	有效
申请日期：	2019-03-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-04T00:00:00+0800
申请号：	CN201910228707.0
公开号：	CN109839387A
代理机构：	重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	蔡冬彦
分类号：	G01N21/94(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	621900 四川省绵阳市游仙区绵山路64号
主权项：	1.一种快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于，包括：将大口径光学元件置于暗室中的步骤；利用采集照明系统，使光线以全反射角入射大口径光学元件的表面，并利用图像采集系统获取大口径光学元件表面损伤点分布的单一图像的步骤；利用采集照明系统，使光线以低角度入射照明大口径光学元件的表面，并利用图像采集系统获取大口径光学元件表面污染点和损伤点分布的混合图像的步骤；以及利用计算机对图像采集系统两次分别获取到的单一图像和混合图像进行处理，获得大口径光学元件表面污染点分布的单一图像的步骤。 2.根据权利要求1所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：所述采集照明系统包括全反射照明模块和低角度入射照明模块；当全反射照明模块启动时，低角度入射照明模块关闭，当低角度入射照明模块启动时，全反射照明模块关闭。 3.根据权利要求2所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：所述全反射照明模块包括若干全反射照明线光源1以及分别设置在各个全反射照明线光源1与大口径光学元件之间的全反射狭缝光阑2，所述低角度入射照明模块包括若干低角度入射照明线光源3以及分别设置在各个低角度入射照明线光源3与大口径光学元件之间的低角度入射狭缝光阑4。 4.根据权利要求3所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：各个所述全反射照明线光源1沿周向分布在大口径光学元件的周围。 5.根据权利要求3所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：各个所述全反射照明线光源1和低角度入射照明线光源3均为LED线光源。 6.根据权利要求3所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：各个所述全反射狭缝光阑2和低角度入射狭缝光阑4的狭缝宽度均可调。 7.根据权利要求1所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：所述图像采集系统包括CCD相机6和成像镜头5，所述成像镜头5设置在CCD相机6靠近大口径光学元件的一侧，所述CCD相机6和计算机之间能够进行数据传输。 8.根据权利要求1所述的快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，其特征在于：在所述暗室中设置有样品台，该样品台包括底座和设置在底座上的光学元件固定支架。
所属类别：	发明专利