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原文传递大口径光学元件表面缺陷增长分析方法、系统、装置

专利名称：	大口径光学元件表面缺陷增长分析方法、系统、装置
摘要：	本发明属于机器视觉表面缺陷检测领域，具体涉及一种大口径光学元件表面缺陷增长分析方法、系统、装置，旨在解决精密光学元件缺陷信息的追溯缺少依据的问题。本系统方法包括获取光学元件t时刻表面缺陷图像及缺陷信息Db和t+1时刻表面缺陷图像及缺陷信息Df；选取光学元件t时刻的基准点O1和角度A1，利用模板匹配获取t+1时刻O1的匹配点O2和角度A2；以匹配点O2为基准，将Db转换为转换缺陷信息Dbc；将转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配，若匹配结果大于设定阈值，判定为同一缺陷，否则重新获取缺陷图像；判定为同一缺陷的，根据Dbc和Df中缺陷等效长度变化，获取光学元件缺陷增长情况。本发明准确实现大口径光学元件表面缺陷检测的增长分析，为精密光学元件缺陷信息追溯提供依据。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	中国科学院自动化研究所
发明人：	陶显;张大朋;马文治;侯伟;徐德
专利状态：	有效
申请日期：	2019-05-17T00:00:00+0800
发布日期：	2019-07-19T00:00:00+0800
申请号：	CN201910414436.8
公开号：	CN110031471A
代理机构：	北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	郭文浩;尹文会
分类号：	G01N21/88(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	100190 北京市海淀区中关村东路95号
主权项：	1.一种大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，该方法包括：步骤S10，获取光学元件t时刻表面缺陷图像及缺陷信息Db和t+1时刻表面缺陷图像及缺陷信息Df；步骤S20，选取光学元件t时刻的基准点O1和角度A1，利用模板匹配获取t+1时刻O1的匹配点O2和角度A2；步骤S30，以匹配点O2为基准，将缺陷信息Db转换为转换缺陷信息Dbc；步骤S40，将转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配，若匹配结果大于设定阈值，则判定为同一缺陷，执行步骤S50；否则判定不是同一缺陷，令t＝t+1，执行步骤S10；步骤S50，在S40判定为同一缺陷的，根据Dbc和Df中缺陷等效长度L的变化，获取光学元件的缺陷增长情况。 2.根据权利要求1所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，所述表面缺陷图像由成像装置获取的子孔径图像拼接获得。 3.根据权利要求1所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，所述缺陷信息包括缺陷外接矩形左上角坐标、缺陷外接矩形右下角坐标、缺陷等效长度、缺陷等效宽度。 4.根据权利要求1-3任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，步骤S30“以匹配点O2为基准，将缺陷信息Db转换为转换缺陷信息Dbc”，转换公式如下：其中，Dbc的坐标为(Dbc.x,Dbc.y)，Db的坐标为(Db.x,Db.y)，Dbc、Db的坐标可以为缺陷外接矩形左上角坐标或者右下角坐标，O1的坐标为(O1.x,O1.y)，O2的坐标为(O2.x,O2.y)，A为角度A1的矩阵，B为角度A2的矩阵。 5.根据权利要求1-3任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，“转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配”，其方法为：获取Dbc任一缺陷的外接矩形和Df任一缺陷外接矩形，得到相交面积，将相交面积和自身面积比较。 6.根据权利要求1-3任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法，其特征在于，步骤S40所述设定阈值为0.5。 7.一种大口径光学元件表面缺陷增长分析系统，其特征在于，该系统包括获取模块、基准点匹配模块、转换对齐模块、缺陷匹配模块、输出模块；所述的获取模块，配置为获取光学元件t时刻表面缺陷图像及缺陷信息Db和t+1时刻表面缺陷图像及缺陷信息Df；所述的基准点匹配模块，配置为选取光学元件t时刻的基准点O1和角度A1，利用模板匹配获取t+1时刻O1的匹配点O2和角度A2；所述的转换对齐模块，配置为以匹配点O2为基准，将缺陷信息Db转换为转换缺陷信息Dbc；所述的缺陷匹配模块，配置为将转换缺陷信息Dbc和缺陷信息Df进行匹配，若匹配结果大于设定阈值，则判定为同一缺陷，执行输出模块；否则判定不是同一缺陷，令t＝t+1，执行获取模块；所述的输出模块，配置为基于缺陷匹配模块判定为同一缺陷的，根据Dbc和Df中缺陷等效长度L的变化，获取光学元件的缺陷增长情况。 8.一种存储装置，其中存储有多条程序，其特征在于，所述程序应用由处理器加载并执行以实现权利要求1-6任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法。 9.一种处理设置，包括处理器、存储装置；处理器，适用于执行各条程序；存储装置，适用于存储多条程序；其特征在于，所述程序适用于由处理器加载并执行以实现权利要求1-6任一项所述的大口径光学元件表面缺陷增长分析方法。
所属类别：	发明专利