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用于半导体器件生产环境评估的取样装置
| 专利名称： | 用于半导体器件生产环境评估的取样装置 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于半导体器件生产环境评估的取样装置，包括：腔室，其具有开口和用于盖住所述开口的封盖，所述腔室用于放置待进入所述半导体器件生产环境的样品，所述样品释放多种污染气体；进气管和出气管，分别设置于所述腔室的两侧，所述进气管通入高纯度气体到所述腔室中，所述出气管取样所述腔室中的气体混合物；进气阀，设置于所述进气管中，用于控制所述高纯度气体的通入量；出气阀，设置于所述出气管中，用于控制所述气体混合物的取样量。 |
| 专利类型： | 实用新型专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 发明人： | 刘克斌;谢渊;方明海;吴静銮;张士仁 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2010-05-21T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201020201086.1 |
| 公开号： | CN201732021U |
| 代理机构： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
| 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 分类号： | G01N1/22(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201203 上海市张江路18号 |
| 主权项： | 一种用于半导体器件生产环境评估的取样装置，其特征在于，包括：腔室，其具有开口和用于盖住所述开口的封盖，所述腔室用于放置待进入所述半导体器件生产环境的样品，所述样品释放多种污染气体；进气管和出气管，分别设置于所述腔室的两侧，所述进气管通入高纯度气体到所述腔室中，所述出气管取样所述腔室中的气体混合物；进气阀，设置于所述进气管中，用于控制所述高纯度气体的通入量；出气阀，设置于所述出气管中，用于控制所述气体混合物的取样量。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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