专利名称: | 基板处理设备 |
摘要: | 本发明提供一种串列式多室基板处理设备,其具有简单的构造,能够降低膜剥离导致的粒子的影响,且能够安装多个处理室。在本发明的一个实施方式中,传送机器手的无关节的臂(4)布置在能够抽气的第一处理室(1)内,其中臂(4)具有基板保持部(4a)且在保持预定的臂长的状态下能执行转动运动。第一加工室(1)构造成能够通过传送机器手的臂(4)从邻接的第二加工室(15)经由开口(20)传送基板。作为臂退避位置和基板安装位置的保持件(7)以与当传送机器手的臂(4)绕转动轴(4b)转动时基板保持部(4a)的轨迹重叠的方式定位。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 佳能安内华股份有限公司 |
发明人: | 田代征仁;中泽俊和 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2010-07-12T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201080032021.1 |
公开号: | CN102484090A |
分类号: | H01L21/677(2006.01)I |
申请人地址: | 日本神奈川县 |
所属类别: | 发明专利 |