专利名称: |
基板处理设备 |
摘要: |
本发明提供一种串列式多室基板处理设备,其具有简单的构造,能够降低膜剥离导致的粒子的影响,且能够安装多个处理室。在本发明的一个实施方式中,传送机器手的无关节的臂(4)布置在能够抽气的第一处理室(1)内,其中臂(4)具有基板保持部(4a)且在保持预定的臂长的状态下能执行转动运动。第一加工室(1)构造成能够通过传送机器手的臂(4)从邻接的第二加工室(15)经由开口(20)传送基板。作为臂退避位置和基板安装位置的保持件(7)以与当传送机器手的臂(4)绕转动轴(4b)转动时基板保持部(4a)的轨迹重叠的方式定位。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
佳能安内华股份有限公司 |
发明人: |
田代征仁;中泽俊和 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2010-07-12T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201080032021.1 |
公开号: |
CN102484090A |
代理机构: |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人: |
刘新宇;张会华 |
分类号: |
H01L21/677(2006.01)I |
申请人地址: |
日本神奈川县 |
主权项: |
一种具有至少两个室的基板处理设备,其包括:第一室,其包括具有臂的传送机器手、第一位置、第二位置和第一开口,所述臂包括能够保持基板的基板保持部,所述臂在与转动轴垂直的方向上延伸,且所述臂能在保持所述臂的长度的状态下绕所述转动轴转动,所述第一位置用于当对所述基板执行预定的处理和当向邻接的室传送所述基板时定位所述基板,所述第二位置不同于所述第一位置;和第二室,所述第二室设置为在所述基板处理设备的传送所述基板的方向上的上游侧与所述第一室邻接,所述第二室包括第三位置和第二开口,所述第三位置用于当向所述第一室传送所述 |
所属类别: |
发明专利 |