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感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体、形成有抗蚀图案的基板和电路基板的制造方法
| 专利名称： | 感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体、形成有抗蚀图案的基板和电路基板的制造方法 |
| 摘要： | 本发明涉及感光性树脂组合物、感光性树脂层叠体、形成有抗蚀图案的基板和电路基板的制造方法。提供：发泡性被抑制、具有良好的灵敏度、分辨率、密合性、能缩短剥离时间、且能形成柔软性优异的抗蚀图案的感光性树脂组合物。含有：(A)碱溶性高分子、(B)具有烯属不饱和双键的化合物、(C)光聚合引发剂和(D)敏化剂，作为(B)具有烯属不饱和双键的化合物，包含通式(1)所示的化合物，(D)敏化剂包含选自吡唑啉化合物、蒽化合物、三芳基胺化合物和噁唑化合物中的至少1种。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 旭化成株式会社 |
| 发明人： | 内藤一也;小谷雄三 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810087046.X |
| 公开号： | CN108375874A |
| 代理机构： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
| 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 分类号： | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B27/32(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;G;H;B;G03;H05;B32;G03F;H05K;B32B;G03F7;H05K3;B32B27;B32B33;G03F7/004;G03F7/027;H05K3/06;B32B27/08;B32B27/36;B32B27/32;B32B33/00 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 1.一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有以下的成分：(A)碱溶性高分子、(B)具有烯属不饱和双键的化合物、(C)光聚合引发剂、和(D)敏化剂，作为所述(B)具有烯属不饱和双键的化合物，包含下述通式(1)所示的化合物： |
| 所属类别： | 发明专利 |
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