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原文传递缺陷检测方法及缺陷检测设备

专利名称：	缺陷检测方法及缺陷检测设备
摘要：	本发明提供了一种缺陷检测方法及检测设备，涉及显示装置制造技术领域，用于解决传统缺陷检测过程受人为因素影响大，造成检测的准确度差的问题，及传统缺陷检测过程耗时长，造成生产效率下降的问题。其中该检测方法包括：获取待检测基板的灰阶图像；判断灰阶图像中是否存在灰阶异常区域，如果是，则确定灰阶图像中的灰阶异常区域和灰阶正常区域，然后执行下一步骤，如果否，则判定待检测基板合格；计算灰阶异常区域与灰阶正常区域的灰阶差值；根据灰阶差值计算灰阶异常区域与灰阶正常区域的膜厚差估计值；根据膜厚差估计值判断待检测基板是否合格。上述方法应用于显示装置的制造过程中，对基板上所涂布的透明薄膜的厚度均匀性进行考察。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
发明人：	习征东;李圭铉;刘超强;王建宏;王金顺
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201810060335.0
公开号：	CN108387587A
代理机构：	北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人：	胡萌
分类号：	G01N21/95(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I;G;G01;G01N;G01B;G01N21;G01B11;G01N21/95;G01B11/06
申请人地址：	100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
主权项：	1.一种缺陷检测方法，其特征在于，所述缺陷检测方法包括以下步骤：S1：获取待检测基板的灰阶图像；S2：判断所述灰阶图像中是否存在灰阶异常区域，如果是，则确定所述灰阶图像中的灰阶异常区域和灰阶正常区域，然后进入步骤S3；如果否，则判定所述待检测基板合格；S3：计算所述灰阶异常区域与所述灰阶正常区域的灰阶差值g；S4：根据所述灰阶差值g，计算所述灰阶异常区域与所述灰阶正常区域的膜厚差估计值d；S5：根据所述膜厚差估计值d，判断所述待检测基板是否合格。
所属类别：	发明专利