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一种基于IPI聚焦像和离焦像的宽尺寸粒子场测量方法
| 专利名称： | 一种基于IPI聚焦像和离焦像的宽尺寸粒子场测量方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于IPI聚焦像和离焦像的宽尺寸粒子场测量方法。该方法是采用双路IPI系统，在小散射角区域，记录粒子垂直偏振光的离焦条纹图，在大散射角区域，记录粒子散射光的聚焦两点像，提取所采集的条纹图的条纹数N和聚焦两点像间距Δl，计算得到粒子尺寸大小，该双路系统可测的最小粒径和最大粒径值，即为可测的粒子尺寸范围。本发明设计的这种结合IPI聚焦像和离焦像的测量方法，具有原理简单、测量精度高、实用性强等特点，可用于宽尺寸范围的粒子场测量，如喷雾粒子场、气溶胶粒子场等。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 天津;12 |
| 申请人： | 天津大学 |
| 发明人： | 吕且妮;徐捷;尉小雪 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810879183.7 |
| 公开号： | CN109001084A |
| 代理机构： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 |
| 代理人： | 李林娟 |
| 分类号： | G01N15/02(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N15;G01N15/02 |
| 申请人地址： | 300072 天津市南开区卫津路92号 |
| 主权项： | 1.一种基于IPI聚焦像和离焦像的宽尺寸粒子场测量方法，其特征在于，所述方法包括：片状光束照射粒子场，粒子发生散射，由成像透镜、CCD组成的成像系统接收粒子的散射光，这一成像系统称为IPI系统，搭建两路IPI系统，在聚焦像面上形成两点像，在离焦像面上形成干涉条纹图；在小散射角区域，记录粒子垂直偏振光产生的离焦条纹图；在大散射角区域，记录粒子聚焦两点像；对上述两路系统采集到的离焦条纹图和聚焦两点像，提取离焦条纹图的条纹数N和聚焦两点像的间距Δl，计算得到粒子直径d；对条纹图，由 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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