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原文传递 一种半导体晶圆划片机
专利名称: 一种半导体晶圆划片机
摘要: 本发明属于半导体生产技术领域,具体的说是一种半导体晶圆划片机,包括工作台、吸盘、真空发生器和切割刀,工作台内设有真空发生器;吸盘安装在工作台上;吸盘用于吸附晶圆;吸盘上方设有切割刀;还包括调节装置;调节装置安装在吸盘的吸附孔上,调节装置用于调整吸附孔的吸附面积。本发明通过设置调节装置改变吸附孔的大小,避免吸附孔过小造成吸附力不足,造成切割损坏,影响晶圆的品质;通过在吸附孔一侧设置连通孔,连通孔内滑动安装着疏通块,当吸附孔内抽真空后,外界气压推动疏通块向吸附孔内移动,在晶圆切割完成后,疏通块在弹簧的作用下回复,缓解切割粉屑对吸附孔堵塞。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 江苏;32
申请人: 李涵
发明人: 李涵;潘万胜
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810532880.5
公开号: CN108705690A
分类号: B28D5/00(2006.01)I;B28D7/04(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B;H;B28;H01;B28D;H01L;B28D5;B28D7;H01L21;B28D5/00;B28D7/04;H01L21/683;H01L21/67
申请人地址: 210024 江苏省南京市西康路1号河海大学
主权项: 1.一种半导体晶圆划片机,包括工作台(1)、吸盘(2)、真空发生器和切割刀(3),所述工作台(1)内设有真空发生器;所述吸盘(2)安装在工作台(1)上;所述吸盘(2)用于吸附晶圆;所述吸盘(2)上方设有切割刀(3);其特征在于:还包括调节装置(4);所述调节装置(4)安装在吸盘(2)的吸附孔(5)上,所述调节装置(4)用于调整吸附孔(5)的吸附面积;其中,所述调节装置(4)包括滑块(41)、螺母(42)、转动杆(43)、齿轮(44)和转盘(45);一组滑块(41)呈圆环状设置在吸附孔(5)外圈;所述滑块(41)一侧固连着螺母(42);所述螺母(42)旋接在转动杆(43)端头;所述转动杆(43)中部固连着齿轮(44);所述转动杆(43)底部设有与齿轮(44)相啮合的转盘(45);所述转盘(45)转动安装在吸盘(2)内部;所述转盘(45)外圈设有齿槽;所述吸盘(2)内部的转盘(45)依次啮合,其中一个转盘(45)通过电机控制转动。
所属类别: 发明专利
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