专利名称: |
一种辨别碳化硅晶片碳硅面的方法 |
摘要: |
本发明公开了一种辨别碳化硅晶片碳硅面的方法。该方法将生长得到的碳化硅晶锭进行平面磨、滚圆加工;对滚圆后的晶锭进行定向,确定基准轴方向为<11‑20>方向;沿<11‑20>方向加工非对称V型槽;晶锭加工制备成晶片;加工后的晶片其V型槽形成夹角θ,形成夹角θ的两条斜边分别设为a和b,且两条斜边的长度满足a≠b;以两条斜边a<b还是两条斜边a>b即可判断出所对应的晶片表面为碳面或是硅面。本发明降低了对晶片的损伤,提高了晶片的有效使用面积,降低了成本,高效实现了对晶片碳硅面的判断;同时能省去晶片原有的大定位边,可以减少再生长得到的晶体缺陷,提高晶体品质。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
天津;12 |
申请人: |
中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
发明人: |
窦瑛;徐永宽;洪颖;杨丹丹;高飞 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810016138.9 |
公开号: |
CN107991230A |
代理机构: |
天津中环专利商标代理有限公司 12105 |
代理人: |
王凤英 |
分类号: |
G01N19/00(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N19;G01N19/00 |
申请人地址: |
300220 天津市河西区洞庭路26号 |
主权项: |
一种辨别碳化硅晶片碳硅面的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)、将生长得到的碳化硅晶锭进行平面磨、滚圆加工;(2)、对滚圆后的晶锭进行定向,确定基准轴方向为<11‑20>方向;(3)、沿<11‑20>方向加工一个非对称V型槽;(4)、对晶锭进行切割、研磨、倒角和抛光加工,制备成晶片;(5)、加工后的晶片其非对称V型槽形成夹角θ,形成夹角θ的两条斜边分别设为a和b,且两条斜边的长度满足a≠b;(6)、以两条斜边a<b还是两条斜边a>b即可判断出所对应的晶片表面为碳面或是硅面。 |
所属类别: |
发明专利 |