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原文传递双面缺陷分析设备及缺陷检测和分析系统

专利名称：	双面缺陷分析设备及缺陷检测和分析系统
摘要：	本发明涉及一种双面缺陷分析设备，包括：接收单元、至少两个面阵相机以及分析单元。接收单元适于接收待分析的电路板的表面图像；至少两个面阵相机适于定位到电路板的两个相对表面中由表面图像所指示的缺陷位置，且拍摄缺陷的缺陷图像，缺陷图像的质量高于表面图像的质量；分析单元适于确定表面图像中的缺陷的位置，且分析缺陷图像以判断缺陷的类型。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	上海;31
申请人：	笪萨科技(上海)有限公司
发明人：	孙平
专利状态：	有效
申请日期：	2019-06-28T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-30T00:00:00+0800
申请号：	CN201910576526.7
公开号：	CN110186938A
代理机构：	上海专利商标事务所有限公司
代理人：	骆希聪
分类号：	G01N21/956(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	200233 上海市徐汇区桂平路471号9号楼504室
主权项：	1.一种双面缺陷分析设备，包括：接收单元，适于接收待分析的电路板的表面图像；至少两个面阵相机，适于定位到所述电路板的两个相对表面中由所述表面图像所指示的缺陷位置，且拍摄所述缺陷的缺陷图像，所述缺陷图像的质量高于所述表面图像的质量；以及分析单元，适于确定所述表面图像中的缺陷的位置，且分析所述缺陷图像以判断所述缺陷的类型。 2.如权利要求1所述的双面缺陷分析设备，其特征在于，还包括夹持装置，所述夹持装置适于以使所述电路板处于垂直状态的方式夹持所述电路板，所述夹持装置包括：框架，适于放置处于垂直状态的电路板；第一机械手，设于所述框架上，适于夹持所述电路板的第一边缘；以及第二机械手，设于所述框架上，适于夹持所述电路板的第二边缘；其中所述至少两个面阵相机，分别可移动地设于所述框架的相对两侧，以分别拍摄所述电路板的两个相对表面的缺陷图像。 3.如权利要求2所述的双面缺陷分析设备，其特征在于，还包括夹持控制模块，所述夹持装置还包括第一夹板和第二夹板，所述第一机械手设在所述第一夹板上，所述第二机械手设在所述第二夹板上，其中所述夹持控制模块配置为根据所述电路板在第一方向上的尺寸，在所述第一方向上移动所述第一夹板和/或第二夹板。 4.如权利要求2所述的双面缺陷分析设备，其特征在于，还包括机械手，适于将所述电路板放置到所述夹持装置上。 5.如权利要求3所述的双面缺陷分析设备，其特征在于，还包括至少两个标记装置，所述分析单元配置为控制所述标记装置沿着第一方向和第二方向移动，而在所述电路板上标记缺陷的类型，所述第二方向与所述第一方向相交。 6.如权利要求1所述的双面缺陷分析设备，其特征在于，所述分析单元配置为按照如下方式分析所述缺陷图像以判断所述缺陷的类型：基于良品电路板的样本生成良品训练样本，且获得从电路板的局部区域采集图像中分割的缺陷样本及类型；使用所述良品训练样本训练神经网络分类器，其中所述神经网络分类器进行缺陷样本的特征提取；使用所述缺陷样本对所述神经网络分类器进行标定；以及使用经训练的神经网络分类器分析所述缺陷图像以判断所述缺陷的类型。 7.一种缺陷检测和分析系统，包括：检测设备，包括：至少两个线阵相机，设于一平台上，其中待检测的电路板在所述平台上沿着传送方向移动，所述至少两个线阵相机分别适于在所述电路板移动的过程中拍摄所述电路板的两个相对表面的表面图像；以及检测单元，电连接所述线阵相机和所述平台且配置为在所述电路板移动的过程中，对所述表面图像进行处理以判断所述电路板是否为良品，其中当判断所述电路板是良品时，所述检测单元控制所述平台将所述电路板传送到第一出口，当所述判断电路板不是良品时，所述检测单元控制所述平台将所述电路板传送到第二出口；双面缺陷分析设备，包括：承载台，连接所述第二出口，适于接收并承载水平状态的所述电路板；接收单元，连接所述检测单元，适于接收待分析的电路板的表面图像；面阵相机，适于定位到所述表面图像中的缺陷位置，且拍摄所述缺陷的缺陷图像，所述缺陷图像的质量高于所述表面图像的质量；以及分析单元，适于确定所述表面图像中的缺陷的位置，且分析所述缺陷图像以判断所述缺陷的类型。 8.如权利要求7所述的缺陷检测和分析系统，其特征在于，所述平台位于所述电路板的生产线上。 9.如权利要求7所述的缺陷检测和分析系统，其特征在于，所述双面缺陷分析设备还包括夹持装置，所述夹持装置适于以使所述电路板处于垂直状态的方式夹持所述电路板。 10.如权利要求9所述的缺陷检测和分析系统，其特征在于，还包括机械手，适于将所述电路板放置到所述夹持装置上。
所属类别：	发明专利