专利名称: |
外延晶圆背面检查方法及其检查装置、外延成长装置的起模针管理方法及外延晶圆制造方法 |
摘要: |
本发明提供一种外延晶圆背面检查方法,能够检测出外延晶圆背面的针印缺陷,且能够定量地评价该针印缺陷的各个点状缺陷的缺陷尺寸。基于本发明的外延晶圆背面的检查方法包括:一边以扫描部扫描光学系统,一边连续地拍摄外延晶圆背面的部分图像的拍摄工序(S10);从所述部分图像中获取所述背面的整体图像的获取工序(S20);从所述整体图像中检测出由存在于所述背面的多个点状缺陷所组成的组构成的针印缺陷的检测工序(S30);对所述检测出的所述针印缺陷的各个点状缺陷进行数值化处理,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积的数值化处理工序(S40)。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
胜高股份有限公司 |
发明人: |
松尾圭子;和田直之;江头雅彦 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-02-22T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-05T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201880014834.4 |
公开号: |
CN110418958A |
代理机构: |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人: |
张泽洲;陈浩然 |
分类号: |
G01N21/956(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
日本东京都 |
主权项: |
1.一种外延晶圆背面检查方法,其特征在于,使用具有具备相对于外延晶圆的背面垂直地设置并且光源是蓝色LED及红色LED中的任一个的环形光纤照明及拍摄部的光学系统和与所述背面平行地扫描所述光学系统的扫描部的外延晶圆背面检查装置,所述外延晶圆背面检查方法包括: 拍摄工序,一边以所述扫描部扫描所述光学系统,一边连续地拍摄所述背面的部分图像; 获取工序,从所述部分图像中获取所述背面的整体图像; 检测工序,从所述整体图像中检测出由存在于所述背面的多个点状缺陷所组成的组构成的针印缺陷;以及 数值化处理工序,对所述检测出的所述针印缺陷的各个点状缺陷进行数值化处理,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积, 在所述检测工序中,抽取自所述外延晶圆的背面的中心远离指定距离的位置上的点状的标准缺陷,并将该标准缺陷的位置设为第1标准位置,从所述中心以每等角旋转所述第1标准位置而抽取多个第2标准位置附近的缺陷,将所述第1标准位置及所述多个第2标准位置附近的点状缺陷所组成的组作为所述针印缺陷进行检测。 2.根据权利要求1所述的外延晶圆背面检查方法,其中,所述数值化处理工序包括: 第1工序,获取所述整体图像中的所述针印缺陷的各个点状缺陷的各像素的亮度值; 第2工序,根据指定的亮度阈值对所述各像素的亮度值进行二值化处理;以及 第3工序,根据所述二值化处理后的各像素,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积。 3.根据权利要求1或2所述的外延晶圆背面检查方法,其还包括:判定工序,在所述数值化处理工序后,根据所述各个点状缺陷的缺陷面积与预定的面积阈值的对比,判定所述各个点状缺陷的良否。 4.一种外延晶圆背面检查装置,其特征在于,具有: 光学系统,具备相对于外延晶圆的背面垂直地设置并且光源是蓝色LED及红色LED中的任一个的环形光纤照明及拍摄部; 扫描部,与所述背面平行地扫描所述光学系统; 解析部,解析由所述光学系统所获取的外延晶圆背面的图像;以及 控制部,控制所述光学系统、所述扫描部及所述解析部, 所述外延晶圆背面检查装置中, 所述光学系统经由所述控制部一边以所述扫描部进行扫描,一边连续地拍摄所述背面的部分图像, 所述解析部经由所述控制部,从所述部分图像获取所述背面的整体图像,并从所述整体图像中检测出由存在于所述背面的多个点状缺陷所组成的组构成的针印缺陷,对所述检测出的所述针印缺陷的各个点状缺陷进行数值化处理,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积, 当所述解析部检测出所述针印缺陷时,抽取自所述外延晶圆背面的中心远离指定距离的位置上的点状的标准缺陷,并将该标准缺陷的位置设为第1标准位置,从所述中心以每等角旋转所述第1标准位置而抽取多个第2标准位置附近的缺陷,将所述第1标准位置及所述多个第2标准位置附近的点状缺陷所组成的组作为所述针印缺陷进行检测。 5.根据权利要求4所述的外延晶圆背面检查装置,其中, 当进行所述数值化处理时,所述解析部经由所述控制部获取所述整体图像中的所述针印缺陷的各个点状缺陷的各像素的亮度值,根据指定的亮度阈值对所述各像素的亮度值进行二值化处理,根据所述二值化处理后的各像素,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积。 6.根据权利要求4或5所述的外延晶圆背面检查装置,其中, 所述解析部经由所述控制部根据所述各个点状缺陷的缺陷面积与预定的面积阈值的对比,进一步判定所述各个点状缺陷的良否。 7.一种外延成长装置的起模针管理方法,其特征在于,根据由权利要求1至3中任一项所述的外延晶圆背面的检查方法所算出的所述各个点状缺陷的缺陷面积,判定外延成长装置的起模针的更换时期。 8.一种外延晶圆的制造方法,其特征在于,包括:外延层形成工序,使用起模针形式的外延成长装置在硅晶圆的正面形成外延层来获得外延晶圆;背面检查工序,检查所述外延晶圆的背面,所述制造方法中, 所述背面检查工序使用具有具备相对于所述外延晶圆的背面垂直地设置并且光源是蓝色LED及红色LED中的任一个的环形光纤照明及拍摄部的光学系统和与所述背面平行地扫描所述光学系统的扫描部的外延晶圆背面检查装置,所述背面检查工序包括: (a)拍摄工序,一边以所述扫描部扫描所述光学系统,一边连续地拍摄所述背面的部分图像; (b)获取工序,从所述部分图像中获取所述背面的整体图像; (c)检测工序,从所述整体图像中检测出由存在于所述背面的多个点状缺陷所组成的组构成的针印缺陷;以及 (d)数值化处理工序,对所述检测出的所述针印缺陷的各个点状缺陷进行数值化处理,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积;以及 (e)判定工序,在所述数值化处理工序后,根据所述各个点状缺陷的缺陷面积与预定的面积阈值的对比,判定所述各个点状缺陷的良否, 在所述(d)检测工序中,抽取自所述外延晶圆背面的中心远离指定距离的位置上的点状的标准缺陷,并将该标准缺陷的位置设为第1标准位置,从所述中心以每等角旋转所述第1标准位置而抽取多个第2标准位置附近的缺陷,将所述第1标准位置及所述多个第2标准位置附近的点状缺陷所组成的组作为所述针印缺陷进行检测。 9.根据权利要求8所述的外延晶圆的制造方法,其中,所述(d)数值化处理工序包括: 第1工序,获取所述整体图像中的所述针印缺陷的各个点状缺陷的各像素的亮度值; 第2工序,根据指定的亮度阈值对所述各像素的亮度值进行二值化处理;以及 第3工序,根据所述二值化处理后的各像素,算出所述各个点状缺陷的缺陷面积。 |
所属类别: |
发明专利 |