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原文传递半导体清洗装置

专利名称：	半导体清洗装置
摘要：	本发明提供一种晶片传送器件或船和包括晶片传送装置器件和可加热的反应芯的半导体清洗装置。晶片传送器件包括具有用于接收第一组半导体晶片的多个第一狭缝的第一单元和具有用于接收第二组半导体晶片的多个第二狭缝的第二单元。第一狭缝与第二狭缝交替设置。第一单元可与第一电压源相连，第二单元可与第二电压源相连。第二电压源比第一电压源负电性更强。一般情况下，第一组半导体晶片中具有将被去掉的杂质，第二组半导体晶片用于接收这些杂质。
专利类型：	发明专利
申请人：	西扎里有限公司
发明人：	Y·津曼; A·拉维德; L·肖伊彻特; I·科尔赫马; A·瑟尔吉恩克
专利状态：	有效
申请日期：	1998-06-05T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN98115144.2
公开号：	CN1202724
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司
代理人：	叶恺东; 王忠忠
分类号：	H01L21/30
申请人地址：	以色列米格达尔特芬
所属类别：	发明专利