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半导体装置的制造方法及半导体制造装置
| 专利名称： | 半导体装置的制造方法及半导体制造装置 |
| 摘要： | 本发明通过在含有氢气的惰性气体气氛中保持晶片，抑制晶片表面的 氢末端性在输送途中(20)等中变差。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 大见忠弘 |
| 发明人： | 大见忠弘;寺本章伸;赤堀浩史 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2005-09-13T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200580051562.8 |
| 公开号： | CN101263589 |
| 代理机构： | 中科专利商标代理有限责任公司 |
| 代理人： | 李贵亮 |
| 分类号： | H01L21/677(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本国宫城县 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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