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原文传递 采用高效液相色谱法测定目标杂质校正因子的方法及其应用
专利名称: 采用高效液相色谱法测定目标杂质校正因子的方法及其应用
摘要: 本发明公开了一种在杂质对照品难以获得的情况下,采用高效液相色谱法测定特定杂质校正因子的方法,具体是在主成分转化为特定杂质的反应中,通过控制反应条件如稀释溶剂、反应时间、溶液浓度等,以杂质峰面积的增加值为自变量,主成分峰面积的减少值为因变量进行线性回归分析,然后由线性方程的斜率、主成分和待测杂质的相对分子质量及转化反应的摩尔系数计算出特定杂质的校正因子。本发明在对转化反应条件进行考察和优化的基础上,成功测定了头孢地尼原料药中目标杂质的校正因子,取得了满意的结果,与传统方法相比,本发明无需杂质对照品,且结果准确,操作简单,应用范围广阔。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 江苏;32
申请人: 中国药科大学
发明人: 李博;狄斌;朱梦婕
专利状态: 有效
申请日期: 2019-01-29T00:00:00+0800
发布日期: 2019-04-30T00:00:00+0800
申请号: CN201910085899.4
公开号: CN109696500A
代理机构: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人: 杨晓莉
分类号: G01N30/02(2006.01);G;G01;G01N;G01N30
申请人地址: 211198 江苏省南京市江宁区龙眠大道639号
主权项: 1.一种采用高效液相色谱法测定目标杂质校正因子的方法,其特征在于,包括以下步骤: (1)定义待测化合物中主成分A转化为目标杂质B的反应如下式: xA→yB+C, 其中,C表示除目标杂质B以外的其余所有副产物,x和y分别表示转化反应中主成分A和目标杂质B的摩尔反应系数; (2)以副反应程度最小为评价指标,优化确定最终转化反应条件,然后配制待测化合物的样品溶液,立即采用高效液相色谱法测定主成分A和目标杂质B的初始峰面积值(AA0和AB0);任意i时刻的副反应程度按下式计算: 其中,AA0%、AAi%和AC0%、ACi%分别表示主成分和副产物在初始0时刻和i时刻的峰面积,以面积归一化法计; (3)在优化确定的反应条件下,于若干个不同时刻采用高效液相色谱法测定待测化合物中主成分A和目标杂质B的峰面积值AAi和ABi,当转化反应进行到一定时间时,根据反应摩尔系数比存在如下等式: 其中,mA0、mAi和mB0、mBi分别表示主成分A和目标杂质B在初始0时刻和任意i时刻的质量,MA和MB分别表示主成分A和目标杂质B的相对分子质量; (4)令ΔmA=(mA0-mAi),ΔmB=(mBi-mB0)和ΔPeak AreaA=(AA0-AAi),ΔPeak AreaB=(ABi-AB0),根据如下所示的校正因子的对照品法计算公式: 且对于上式中的ΔConcA、ΔConcB,在同一反应体系中,存在下式: ΔConcA=ΔmA×V,ΔConcB=ΔmA×V,其中V相同, 结合(3)、(4)中各等式,以杂质峰面积的增加值(AB0-ABi)为自变量,主成分峰面积的减少值(AA0-AAi)为因变量,进行线性回归分析可得到线性方程如下: (5)由(4)中线性方程的斜率结合主成分A和目标杂质B的相对分子质量及转化反应的摩尔反应系数可进一步计算出目标杂质的校正因子F。 2.根据权利要求1所述的采用高效液相色谱法测定目标杂质校正因子的方法,其特征在于,步骤(2)中,所述优化的转化反应条件为照射光源、稀释溶剂、光照时间或样品溶液浓度。 3.根据权利要求1所述的采用高效液相色谱法测定目标杂质校正因子的方法,其特征在于,步骤(3)中,所述若干是6以上。 4.权利要求1-3中任一所述方法在测定药物杂质校正因子中的应用。 5.权利要求1-3中任一所述方法在测定头孢地尼原料药中杂质校正因子中的应用。 6.根据权利要求5所述的应用,其特征在于,包括以下步骤: (1)配制头孢地尼原料药溶液,对反应条件进行考察; (2)以副反应程度最小为评价指标,最终确定主成分头孢地尼转化为目标杂质的最佳反应条件; (3)按照最佳反应条件配制头孢地尼原料药溶液后,分别于不同时刻采用高效液相色谱法测定样品溶液中主成分峰面积和目标杂质峰面积; (4)以目标杂质峰面积的增加值(AB0-ABi)为自变量,主成分峰面积的减少值(AA0-AAi)为因变量,按照最小二乘法进行线性回归分析,得到线性方程如下: (5)由(4)中线性方程的斜率结合主成分和目标杂质的相对分子质量以及转化反应的摩尔反应系数计算出特定杂质的校正因子。 7.根据权利要求6所述的应用,其特征在于,步骤(2)中,根据副反应程度计算公式确定优化的转化反应条件包括照射光源、稀释溶剂、光照时间和样品溶液浓度。 8.根据权利要求6所述的应用,其特征在于,步骤(3)中,高效液相色谱条件是:流动相初始比例:3%~7%B,色谱柱:十八烷基硅烷键合硅胶,流速:0.9~1.1mL/min,柱温:38~42℃,检测波长:253~255nm。 9.根据权利要求6所述的应用,其特征在于,所述目标杂质为头孢地尼杂质R。 10.根据权利要求9所述的应用,其特征在于,步骤(2)中根据副反应程度计算公式确定的最佳反应条件为:照射光源强度为4500±500lx,稀释溶剂为pH 8.0的柠檬酸-磷酸氢二钠缓冲液,样品溶液头孢地尼原料药溶液浓度为0.5mg/mL,光照时间为12小时。
所属类别: 发明专利
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