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基板观察装置、基板观察方法以及控制装置
| 专利名称： | 基板观察装置、基板观察方法以及控制装置 |
| 摘要： | 本发明提供基板观察装置、基板观察方法及控制装置，即使在伴随 基板和装置的大型化而难以通过统一校正进行适当校正的情况下也能够 实现适当校正。具有基板观察装置的功能的缺陷修正装置根据指定基板 上的缺陷位置的第一位置信息，使光学系统相对于基板的相对位置移动。 图像处理部取入由摄像部经由相对移动后的光学系统所拍摄的拍摄图 像，并取得表示缺陷位置的第二位置信息。坐标校正映射图生成部根据 第二位置信息生成用于根据第一位置信息校正相对移动量的校正信息。 坐标校正映射图存储部存储包含所生成的校正信息的坐标校正映射图。 在坐标校正映射图中，使校正信息与预先定义的多个区域中对应于第一 位置信息的区域相关联。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 奥林巴斯株式会社 |
| 发明人： | 高木修 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2009-05-19T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200910143199.2 |
| 公开号： | CN101587080 |
| 代理机构： | 北京三友知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 李 辉 |
| 分类号： | G01N21/88(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京 |
| 主权项： | 1.一种基板观察装置，其特征在于，该基板观察装置具有： 光学单元，其对基板进行放大观察； 相对移动单元，其根据指定所述基板上的观察对象的位置的第一位 置信息，使所述光学单元相对于所述基板的相对位置移动； 摄像单元，其经由通过所述相对移动单元相对于所述基板进行相对 移动后的所述光学单元来拍摄所述观察对象，并输出拍摄图像； 图像处理单元，其从所述摄像单元取入所述拍摄图像，并根据所述 拍摄图像来取得表示所述观察对象的位置的第二位置信息； 校正信息生成单元，其根据由所述图像处理单元取得的所述第二位 置信息来生成校正信息，该校正信息用于根据所述第一位置信息来校正 基于所述第一位置信息的通过所述相对移动单元进行的相对移动的量； 以及 校正信息存储单元，其将所述校正信息生成单元所生成的所述校正 信息与预先定义的多个区域中对应于所述第一位置信息的区域相关联地 进行存储。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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