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原文传递基板显影处理装置

专利名称：	基板显影处理装置
摘要：	本实用新型提供基板显影处理装置包括：一基座；滚轮组，安装于基座上，所述滚轮组由复数个互相平行并且沿水平方向一字排列的滚轮组成；滚轮组驱动装置，所述滚轮组驱动装置驱动所述滚轮组的滚轮转动；挡块，位于滚轮组两端的挡块,所述挡块下方设置有挡块升降机构；基板位置传感器。基板在显影过程中被放置于滚轮组上，通过滚轮驱动装置驱动滚轮不停正转反转使位于滚轮组上的基板沿水平方向晃动，通过晃动可以使基板表面的显影液的分布更加均匀。
专利类型：	实用新型专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	龚金金;朱棋锋;张为腾;吴康成
专利状态：	有效
申请日期：	2013-11-13T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201320713736.4
公开号：	CN203595896U
代理机构：	上海唯源专利代理有限公司 31229
代理人：	曾耀先
分类号：	G03F7/30(2006.01)I
申请人地址：	201508 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项：	一种基板显影处理装置，其特征在于主要包括：基座；滚轮组，安装于所述基座上，所述滚轮组包括互相平行并且沿水平方向一字排列的复数个滚轮；与所述滚轮组连接、用于驱动所述滚轮组中的滚轮转动的滚轮组驱动装置；挡块，位于滚轮组两端；设置于基座上、用于感应基板位置以供所述滚轮组驱动装置据此控制所述滚轮组转动方式的基板位置传感器。
所属类别：	实用新型