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基板清洗液、其制备方法以及集成电路基板的清洗方法
| 专利名称： | 基板清洗液、其制备方法以及集成电路基板的清洗方法 |
| 摘要： | 本发明涉及集成电路基板的生产领域，提供了一种基板清洗液、其制备方法以及集成电路基板的清洗方法。该基板清洗液的组分按重量份数计包括超临界二氧化碳溶剂20‑30份、氢氟醇5‑8份、乙酸乙酯5‑8份、三氯乙烯5‑8份、去离子水30‑40份、乙二醇单乙醚10‑12份、N‑甲基吡咯烷酮10‑15份、碳酸氢钠10‑15份。该基板清洗液对集成电路基板的清洗效果佳，基板清洗液易于去除，并且对集成电路基板无损伤。其制备方法简单，获得的基板清洗液能够对基板进行很好的清洁。此外，集成电路基板的清洗方法，其包括将基板置于上述基板清洗液中进行清洗。清洗效果佳，集成电路基板的性能佳。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 北京蜃景光电科技有限公司 |
| 发明人： | 刘金章;杨欣泽 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810841056.8 |
| 公开号： | CN108695140A |
| 代理机构： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 |
| 代理人： | 黄彩荣 |
| 分类号： | H01L21/02(2006.01)I;C11D7/50(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I;C11D7/30(2006.01)I;C11D7/28(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;C11D7/12(2006.01)I;C11D7/60(2006.01)I;H;C;H01;C11;H01L;C11D;H01L21;C11D7;H01L21/02;C11D7/50;C11D7/32;C11D7/30;C11D7/28;C11D7/26;C11D7/12;C11D7/60 |
| 申请人地址： | 100000 北京市海淀区中关村大街甲38号1号楼B座16层089号 |
| 主权项： | 1.一种基板清洗液，其特征在于，其组分按重量份数计包括超临界二氧化碳溶剂20‑30份、氢氟醇5‑8份、乙酸乙酯5‑8份、三氯乙烯5‑8份、去离子水30‑40份、乙二醇单乙醚10‑12份、N‑甲基吡咯烷酮10‑15份以及碳酸氢钠10‑15份。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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