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旋转型半导体晶片处理装置和半导体晶片处理方法
| 专利名称： | 旋转型半导体晶片处理装置和半导体晶片处理方法 |
| 摘要： | 本发明的半导体晶片处理装置包含处理半导体晶片的Ｎ（大于１的正整数）个工艺腔；以彼此间隔３６０／Ｎ度环形均布，且被支撑起围绕一圆心旋转；至少一对将半导体晶片送进／出Ｎ个工艺腔之一中的彼此间隔３６０Ｍ／Ｎ度环形均布的晶片传递装置，其中１≤Ｍ≤（Ｎ－１）的正整数；一将其中任何两个工艺腔旋转以面对晶片传递装置的驱动装置。本发明的装置不会导致半导体晶片等待处理的现象而增加了生产量。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 日本电气株式会社 |
| 发明人： | 东久美子 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 1996-05-31T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN96110013.3 |
| 公开号： | CN1144398 |
| 代理机构： | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人： | 萧掬昌; 张志醒 |
| 分类号： | H01L21/30 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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