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原文传递半导体处理装置和方法

专利名称：	半导体处理装置和方法
摘要：	本发明提供一种半导体处理装置，具备具有配置在横方向的不同位置上的多个搬送端口(33)的搬送室(3)。对被处理部件(W)实施半导体处理用的处理室(4A)通过多个搬送端口的一个与搬送室(3) 连接。在搬送室(3)内配置搬送臂设备(5)用于通过多个搬送端口 (33)搬送被处理基板(W)。配置驱动机构(55)用于使搬送臂设备 (5)伸缩，同时绕铅直轴旋转。配置倾斜调整机构(6A～6C)用于调整搬送臂设备(5)的倾斜度。
专利类型：	发明专利
申请人：	东京毅力科创株式会社
发明人：	广木勤
专利状态：	有效
申请日期：	2005-02-24T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200580006009.2
公开号：	CN1922725
代理机构：	北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：	龙淳
分类号：	H01L21/68(2006.01)I
申请人地址：	日本东京
所属类别：	发明专利