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原文传递一种兼容硅片输送装置及检测装置

专利名称：	一种兼容硅片输送装置及检测装置
摘要：	本实用新型公开了一种兼容硅片输送装置及检测装置，兼容硅片输送装置包括输送结构、导向结构和支撑结构，其中：输送结构包括支撑板和输送带，支撑板安装于支撑结构上，支撑板用于支撑输送带的输送面；导向结构安装于支撑结构上且位于支撑板下方，输送带绕经支撑板及导向结构上形成闭环，支撑板与绕经导向结构的输送带之间形成容置空间，容置空间用于容置检测设备，检测设备将激光束打至输送带上承载的硅片上。通过将输送带绕经导向结构形成容置空间，可以使输送带下方避开检测设备的激光束，便于对不同尺寸的硅片进行检测。检测装置包括硅片检测机构，通过调节机构可以调整检测组件的横向位置，便于适应不同尺寸硅片的检测工作。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	江苏;32
申请人：	无锡奥特维科技股份有限公司
发明人：	李泽通;李昶;顾晓奕;徐飞;韩杰;薛冬冬;卞海峰
专利状态：	有效
申请日期：	2022-07-08T00:00:00+0800
发布日期：	2022-12-20T00:00:00+0800
申请号：	CN202221753842.0
公开号：	CN218087870U
代理机构：	无锡永乐唯勤专利代理事务所(普通合伙)
代理人：	章陆一
分类号：	B65G49/07;B65G39/12;B65G15/20;B;B65;B65G;B65G49;B65G39;B65G15;B65G49/07;B65G39/12;B65G15/20
申请人地址：	214000 江苏省无锡市珠江路25路
主权项：	1.一种兼容硅片输送装置，其特征在于，所述兼容硅片输送装置包括输送结构、导向结构和支撑结构，其中：所述输送结构包括支撑板和输送带，所述支撑板安装于所述支撑结构上，所述支撑板用于支撑所述输送带的输送面；所述导向结构安装于所述支撑结构上且位于所述支撑板下方，所述输送带绕经所述支撑板及所述导向结构上形成闭环，所述支撑板与绕经所述导向结构的输送带之间形成容置空间，所述容置空间用于容置检测设备，所述检测设备将激光束打至所述输送带上承载的硅片上。 2.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述输送带包括第一输送带、第二输送带、第三输送带和第四输送带，其中：所述第三输送带、所述第一输送带、所述第二输送带和所述第四输送带并列间隔设置；所述第一输送带和所述第二输送带被配置为输送第一类硅片，所述第一类硅片沿输送方向的边长大于垂直于输送方向的边长；所述第三输送带和所述第四输送带被配置为输送第二类硅片，所述第二类硅片沿输送方向的边长小于或等于垂直于输送方向的边长。 3.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述导向结构包括第一导向轮、第二导向轮、第三导向轮和第四导向轮，其中：所述第一导向轮和所述第二导向轮对向设于所述支撑板下方；所述第三导向轮设于所述第一导向轮的斜下方，所述第四导向轮设于所述第二导向轮的斜下方；所述输送带依次绕经所述第一导向轮、所述第三导向轮、所述第四导向轮和所述第二导向轮；所述支撑板与绕经所述第一导向轮、所述第三导向轮、所述第四导向轮和所述第二导向轮的所述输送带之间形成容置空间；所述容置空间设于所述输送带的输送面下方。 4.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述支撑板上设置有避让槽，其中：所述避让槽沿所述激光束的激光光路方向开设，所述激光束从所述避让槽的第一端进入所述避让槽，并从所述避让槽的第二端打至所述输送带上承载的硅片上。 5.根据权利要求4所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，在所述避让槽的第一端到所述避让槽的第二端的方向上，所述避让槽的槽口尺寸逐渐增加。 6.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述支撑板包括第一支撑板和第二支撑板，所述第一支撑板和所述第二支撑板位于同一水平面上；所述支撑结构安装有调整架，所述调整架设有可调节安装位置的调整轮，所述输送带绕经所述调整轮；所述第二支撑板可朝向或远离所述第一支撑板安装，或者，所述第二支撑板可朝向或远离所述第一支撑板运动，以改变所述输送带的输送面的长度；所述调整轮用于补偿所述输送带的输送面长度变化量。 7.根据权利要求2所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述兼容硅片输送装置还包括固定支撑板、第一调节支撑板和第二调节支撑板，所述第一调节支撑板和所述第二调节支撑板分别设于所述固定支撑板两侧，所述第一输送带和所述第二输送带安装于所述固定支撑板，所述第三输送带安装于所述第一调节支撑板，所述第四输送带安装于所述第二调节支撑板；所述第一调节支撑板和所述第二调节支撑板可升降式安装于所述支撑结构；所述第一调节支撑板用于调节所述第三输送带的高度；所述第二调节支撑板用于调节所述第四输送带的高度。 8.根据权利要求7所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述输送结构还包括驱动装置、第一补偿组件和第二补偿组件，所述驱动装置的驱动端与所述第一输送带和所述第二输送带传动连接；所述第一输送带绕经所述第一补偿组件，所述第一补偿组件经所述第一输送带与所述第三输送带传动连接；所述第二输送带绕经所述第二补偿组件，所述第二补偿组件经所述第二输送带与所述第四输送带传动连接；所述第一调节支撑板和所述第二调节支撑板在升降时分别带动所述第一补偿组件和所述第二补偿组件同步升降，以带动所述第一输送带的补偿段和所述第二输送带的补偿段进行升降；所述第一输送带的补偿段为绕经所述第一补偿组件的部分；所述第二输送带的补偿段为绕经所述第二补偿组件的部分。 9.一种检测装置，其特征在于，所述检测装置包括硅片检测机构和如权利要求1-8任一项所述的兼容硅片输送装置，其中：所述硅片检测机构包括第一检测组件、第二检测组件、第三检测组件、第四检测组件、立板、第一调节机构和第二调节机构；所述第一检测组件和所述第二检测组件滑动安装在所述立板的第一侧；所述第三检测组件和所述第四检测组件滑动安装在所述立板的与所述第一侧相对的第二侧；所述第一调节机构安装于所述立板的第一侧，所述第一调节机构用于同步调节所述第一检测组件和所述第二检测组件朝向或远离所述输送带；所述第二调节机构安装于所述立板的第二侧，所述第二调节机构用于同步调节所述第三检测组件和所述第四检测组件朝向或远离所述输送带。 10.根据权利要求9所述的检测装置，其特征在于，所述检测装置包括第一滑板和第二滑板，所述第一检测组件和所述第二检测组件固定安装在所述第一滑板上，所述第一滑板滑动安装在所述立板上；所述第三检测组件和所述第四检测组件固定安装在所述第二滑板上，所述第二滑板滑动安装在所述立板上；所述第一调节机构和所述第二调节机构的结构相同，均包括调节螺栓，所述调节螺栓的第一端固定连接所述第一滑板或所述第二滑板，所述调节螺栓的第二端螺纹连接所述立板。